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11-14 14:08阅读：2069

光刻机巨头阿斯麦：预计2025年至2030年，先进逻辑和DRAM的EUV微影技术支出复合年增长率将达到两位数

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【ASML表示，预计公司有能力将EUV技术扩展到下一个十年，并扩展多功能整体光刻产品组合】ASML表示，预计公司有能力将EUV技术扩展到下一个十年，并扩展多功能整体光刻产品组合。(财联社)

11-14 14:08

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日经225指数刚刚突破38600.00关口，最新报38599.80，日内跌0.31%

11-14 14:09

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